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砂磨分散后D50=36納米，D100=57納米。品級：
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產品：3納米原晶、片狀、高純(99.91%)、高分散、a-氧化鋁，亦即**芯片光刻機用精拋料。砂磨分散后D50=36納米，D100=57納米。
即頂級芯片光刻機用精拋料
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