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立式化學氣相沉積爐
立式化學氣相沉積爐

參考價格

100-150萬元

型號

VCVD

品牌

頂立科技

產地

湖南

樣本

暫無
湖南頂立科技股份有限公司

金牌會員

|

第12年

|

生產商

工商已核實

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核心參數
  • 非金屬電熱元件:

    其他
  • 金屬電熱元件:

    鎳銅絲
  • 燒結氣氛:

    真空
  • 溫控精度:

    ±5
  • 最高溫度:

    1500
  • 額定溫度:

    1500
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 立式化學氣相沉積爐(沉積炭)可用于以碳氫氣體(如C3H8、CH4等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。


技術特征

☆ 采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

☆ 采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
☆ 采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
☆ 對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。


產品規格

參數\型號VCVD-0305-CVCVD-0608-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1320-CVCVD-1520-C
工作區尺寸D×H(mm)Φ300×500Φ600×800Φ800×1200Φ1100×2000Φ1300×2000Φ1500×2000
**溫度(℃)150015001500150015001500
溫度均勻性(℃)±5/±10±7.5/±10±7.5/±15±10/±15±10/±15±10/±20
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.670.67
加熱方式電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應電阻/感應


參數\型號VCVD-1822-CVCVD-2032-CVCVD-2632-CVCVD-3338-CVCVD-3344-C
工作區尺寸D×H(mm)Φ1800×2200Φ2000×3200Φ2600×3200Φ3300×3800Φ3300×4400
**溫度(℃)15001500150015001500
溫度均勻性(℃)±15±15±15±20±20
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數可根據工藝要求進行調整,不作為驗收依據,具體以技術方案和協議為準。



配置選擇

☆ 爐門:絲桿升降/液壓升降/手動升降;旋轉移開/平行移開(大尺寸爐門);手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊 

☆ 爐殼:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統:體積/質量流量計;手動閥/自動閥;進口/國產
☆ 熱電偶:K分度號/N分度號/C分度號/S分度號

 


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10分

售后服務

10分

易用性

10分

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10分
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