IoN Wave 10E等離子去膠機(jī)是我們在微波等離子處理工藝中的**產(chǎn)品。該批次式晶圓灰化設(shè)備成本低廉、尺寸適中、性能先進(jìn)，特別適用于工廠、科研院所等領(lǐng)域。

IoN Wave 10E使用**的、性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進(jìn)行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)*嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、MEMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

IoN Wave 10E占地面積很小，安裝和維護(hù)簡單。依靠微波等離子技術(shù)，該設(shè)備在提供極高的光刻膠灰化速度的同時，**程度的降低了產(chǎn)品暴露在靜電放電（ESD）中。

先進(jìn)的功能性：

• 臺式設(shè)計，占地面積小
  

• 石英腔室**可容納8寸的晶圓，*多同時裝載25片6寸晶圓

• 使用Windows操作系統(tǒng)的工業(yè)計算機(jī)控制

• 符合Semi E95-1101要求的圖形用戶界面（GUI）

• 軟件提供了不同的用戶訪問權(quán)限：操作員、工藝編寫、維護(hù)

• 通過以太網(wǎng)進(jìn)行遠(yuǎn)程工藝監(jiān)測

• 機(jī)載診斷功能和報警記錄

• 工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能

• 液晶觸摸屏（LCD）操作面板

• 基于在線網(wǎng)絡(luò)的模擬、培訓(xùn)和支持程序

• 安裝簡單快捷

典型應(yīng)用

•  去除光刻膠

•  晶圓打膠

•  濕法刻蝕前的晶圓清潔

•  去除SU-8

•  刻蝕鈍化層

•  失效分析中的器件開封

•  清潔和表面活化

•  化學(xué)微量分析中的低溫材料灰化

•  過濾器和濾膜的清潔

規(guī)格參數(shù)

工作腔室

材質(zhì)                                            石英

尺寸                                            248mm直徑 x 397 mm長

腔門處直徑                                 241mm

容積                                           19.2 升

工藝氣體控制                            *多至6路氣體，MFC控制

基礎(chǔ)壓力                                    0.07 mbar (50 mTorr)

工藝壓力                                    0.5 – 1.5 mbar (375 – 1125 mTorr)

抽真空時間                                大約1分鐘

微波發(fā)生器

頻率                                            2.45 GHz

輸出功率                                    **1200W

供給需求

電源                                           220V，50 Hz，單相

工藝氣體                                   輸入壓力1-2 Bar

壓縮空氣                                   4-6 Bar，流速** 56 升/分鐘   （間歇式）

吹掃氣體                                   1.3-2.7 Bar，流速** 28 升/分鐘 （間歇式）

尺寸 寬/高/深                            775 x 749 x 781 mm

重量                                           135 千克

可選配置

•  推拉門

•  石英舟支撐桿

•  溫控板

•  1%精度的真空規(guī)

•  壓力控制器

•  指示燈柱

•  條形碼閱讀器

•  工藝氣體切換器

•  光譜終點檢測器

•  法拉第桶（次級等離子體）

•  陶瓷腔室，耐化學(xué)腐蝕密封圈

•  打印機(jī)

•  油泵或干泵